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HDI 化学铜的挑战和未来

2016-11-30 05:06

  由于电路板生产难度越来越高,特别是对高难度的HDI而言,垂直式的化学铜制程也面对了技术瓶颈。HDI产品结构,已使板面上的微孔密度大幅提高,其口径也已降到了6mil以下,而纵横比也由0.5/1逐渐拉高到了0.8-1/1,即使将垂直式化学铜进行最优化调整,仍无法应付此类型结构的挑战,例如:重复双次流程加上超音波振荡、加强搅拌等强势做法,都不见得能使良率提升。

  再者HDI厂家目前面对的是另一难题薄板与软板,当核心板或软板厚度减薄到了15mil以下时,一般垂直式设备在使用上就必须搭配框架,但这种方式在使用上相当耗费人力,且容易因为操作不当、夹持不稳产生刮伤问题,因此输送式生产设备就成为比较好的选择。不过化学铜流程必须经过5-6道浸泡式步骤,操作时间长达12分钟以上,一旦采用输送式设备其整条生产线的长度将变得极长,此时设备投资会十分庞大且需要广大的场地设置,这往往让HDI厂家望之却步。

  另外由于钯、铜价格的高涨及环保诉求,都在在冲击到化学铜的生存空间,因此药水开发商必须着手再开发高速、高覆盖率的化学铜,甚至是环保又低成本的化学铜,来提升产品竞争力。

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